在俄罗斯，光刻机技术取得了一项突破性进展。据俄罗斯媒体cnews报道，圣彼得堡的一个团队开发了一套光刻综合体，其中包括一个无掩模图像采集和硅等离子化学蚀刻设备。这项成果被称为第一台用于无掩模纳米光刻的机器，成本约为500万卢布（约37万元人民币）。这个价格远低于国外同类产品的数十倍，为俄罗斯自主研发的光刻机设备提供了巨大的竞争优势。这台光刻机采用的是X射线技术，与传统的光刻技术原理完全不同。X射线光刻机使用X射线作为刻模光源，其波长比极紫外光还要短，因而具有更高的分辨率和精度。与此同时，X射线光刻机无需光掩模版，能够直接写入图像，从而节省了昂贵的光掩模制造费用。据开发人员介绍，这套设备由于无需光掩模，成本和时间上都比传统光刻技术更加便宜。此外，这套设备的价格仅为500万卢布，而同类国外产品的价值高达数十亿卢布。因此，该团队认为，这是世界上唯一的无掩模光刻机，即使是全球领先的光刻设备制造商ASML也无法做到。
这一成果的取得对于俄罗斯微电子领域的技术主权具有重要意义。开发者表示，这套设备将解决俄罗斯在微电子领域的技术主权问题，使俄罗斯在该领域具备自主研发和生产的能力。此外，在金钱和时间上的优势将进一步推动俄罗斯在微电子产业的发展。
其他俄罗斯自研光刻机项目进展
除了上述的无掩模X射线光刻机之外，俄罗斯还有其他自研光刻机项目取得了进展。莫斯科电子技术学院（MIET）正在开发一种基于同步加速器和/或等离子体源的无掩模X射线光刻机，计划达到EUV级别的制造工艺。这一项目是由俄罗斯政府投资的，旨在解决俄罗斯在微电子领域的技术落后问题。据悉，该项目的研发预算为6.7亿卢布。 r此外，位于下诺夫哥罗德的俄罗斯科学院应用物理研究所（IPFRAS）也在积极研发能够生产7nm芯片的光刻机。该研究所已经创建了第一个设计样机，并计划在2022年开始进行试生产。
这些自研光刻机项目的进展表明俄罗斯在微电子领域的技术研发取得了重要突破，并正在逐步解决技术落后和依赖进口的问题。这对于俄罗斯来说是一个重要的机遇，可以加快国内微电子产业的发展，提升国家的技术实力和经济竞争力。
来源：百度百家
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